半导体材料提纯作为发展半导体器件的重要基础。由于大规模和超大规模集成电路的工艺要求，为得到高纯度的硅材料，原料和中间媒介的高纯度和高精度恒温恒湿工程生产环境的洁净度成为影响产品质量的一个突出问题。集成电路芯片的成品率与芯片的缺陷密度有关，而芯片的缺陷密度与空气中粒子个数有关。因此，集成电路的高速发展，不仅对空气中控制粒子的尺寸有极高的要求，而且也需进一步控制粒子数；同时，对于超大规模集成电路生产环境中无尘车间工程的化学污染控制也有相关的要求。

应用范围：电子工业：半导体厂之无尘室、废水、废气排放，及其相关产业之设备等。化学工业：耐酸、耐碱溶液之桶槽、洗涤塔、风管及空污处理设备等。电镀工业：PCB电镀、五金电镀、塑料电镀、电解液之桶槽及清洗、过滤设备等。食品工业：食品加工器械、盛装容器及厨事用砧板等。 保养说明：1.不要用尖锐锋利的硬物刻划柜体。2.不要长时间在温度超过110°C的环境下操作。3.不要暴露于明火，熔融金属，金属火花或直射阳光下，也不能用作切剁的表面。4.煤汽灯或酒精灯的火焰会损坏产品，故酒精灯或煤气灯须置于三角架上使用。5.建议采用温水，丙酮或性质温和的清洁剂清洗产品，可选择用来洗手或洗碗的清洁剂，不要选用含有磨料、强酸成分的清洁剂以免损伤表面。对于顽固的污渍，可将次氯酸滴于污染的产品表面后清水洗尽。

洁净工作台是一种提供局部无尘,无菌工作环境的空气净化设备,并能将工作区已被污染的空气通过专门的过滤通道人为地控制排放，避免对人和环境造成危害，是一种安全的微生物专用洁净工作台，也可广泛应用于生物实验室、医疗卫生、生物制药等相关行业，对改善工艺条件，保护操作者的身体健康 ，提高产品质量和成品率均有良好的效果。

洁净室净化原理：气流→初效净化→空调→中效净化→风机送风管道→高效净化风口→吹入房间→带走尘埃细菌等颗粒→回风百叶窗→初效净化重复以上过程，即可达到净化目的。为保证产品生产环境或其它用途的洁净室所要求的空气洁净度要求，必须采用多项综合技术措施：1、采用产生污染物少的生产工艺及设备；2、采取必要的隔离负压措施，防止生产工艺产生的污染物向四周扩散；3、减少人员及物料带入室内的污染物质；4、加强洁净室的管理，按规定进行清扫、灭菌等工作；5、人、物必须进行分流，不允许人流、物流相互交叉。